產(chǎn)品名稱:LK2010電化學(xué)工作站
更新日期:2024-05-10
產(chǎn)品型號:
產(chǎn)品特點(diǎn):LK2010電化學(xué)工作站是由波形發(fā)生系統(tǒng)、數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)、恒電位-恒電流系統(tǒng)、阻抗分析高頻模塊、用16位單片機(jī)綜合控制,與主計算機(jī)通過高速USB接口連接,實時顯示實驗時的電流、電位、時間的值和它們的圖示關(guān)系,進(jìn)行交流阻抗測量時Bode圖直接實時顯示。
LK2010電化學(xué)工作站的詳細(xì)資料:
LK2010電化學(xué)工作站
LK2010型 電化學(xué)工作站是由波形發(fā)生系統(tǒng)、數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)、恒電位-恒電流系統(tǒng)、阻抗分析高頻模塊、用16位單片機(jī)綜合控制,與主計算機(jī)通過高速USB接口連接,實時顯示實驗時的電流、電位、時間的值和它們的圖示關(guān)系,進(jìn)行交流阻抗測量時Bode圖直接實時顯示。廣泛應(yīng)用于腐蝕電化學(xué)、電化學(xué)機(jī)理等研究與測試、緩蝕劑、水質(zhì)穩(wěn)定劑、涂層以及陰極保護(hù)效率快速評價、氫滲測試、金屬材料在導(dǎo)電性介質(zhì)(包括水/混凝土等環(huán)境)、膜、導(dǎo)電聚合物、半導(dǎo)體、表面處理、電池和燃料電池、電容器和界面等。
一、LK2010電化學(xué)工作站性能特點(diǎn)
(1)中、英文的軟件操作界面
LK2010電化學(xué)工作站采用中、英文的軟件操作界面,操作簡單直觀。實時觀察窗口、圖形數(shù)據(jù)一體化窗口的運(yùn)用,使得測試過程直觀高效。軟件在運(yùn)行中,對用戶的操作及數(shù)據(jù)的有效性、完整性進(jìn)行了充分地檢查,適時給出提示或警告。
(2) 數(shù)據(jù)實時顯示
LK2010具有數(shù)據(jù)列表功能,能夠?qū)崟r顯示測量結(jié)果和打開文件的數(shù)據(jù),確保你方便地查看實驗結(jié)果。使用XML做為內(nèi)置數(shù)據(jù)格式,通過文件和剪貼板輸出各種格式的數(shù)據(jù)和圖形,包括豐富文本rtf、文本txt、位圖bmp、圖元文件wmf等
(3) 強(qiáng)大的數(shù)據(jù)及圖形處理
系統(tǒng)軟件采用*的面對對象編程(OOP)技術(shù),使用XML做為基本的數(shù)據(jù)格式,發(fā)揮各種語言的優(yōu)勢,用C#/C++/asm三種語言聯(lián)合開發(fā),多線程協(xié)同工作,為專業(yè)分析和科研用途提供使用方便的實驗工具和清晰流暢的工作程序,并能以十余種圖形方式顯示測量結(jié)果(如阻抗復(fù)平面圖/Nyquist、Bode圖、Warburg阻抗圖),觀察實驗結(jié)果十分方便。
二、工作環(huán)境
1)環(huán)境溫度: 5oC ~ 40 oC
2)環(huán)境相對濕度:< 80%
3)儀器四周通風(fēng)良好,空氣中不含腐蝕性氣體。
4)儀器周圍無強(qiáng)電磁場干擾。
5)當(dāng)交流幅值<10mV時,電解池需要利用Faraday箱進(jìn)行屏蔽。
6)電源電壓:AC220V(50Hz)。
三、可提供的電化學(xué)方法:
★線性掃描伏安★循環(huán)伏安★慢速線性掃描伏安★慢速循環(huán)掃描伏安★單/雙/三電勢階躍★記時電流★記時電量★記時電勢★反向記時電流★反向記時電量★反向記時電勢★開路電勢測量★電勢差測量★恒電流電解★恒電勢電解★方波伏安★方波循環(huán)伏安★Tafel曲線★常規(guī)脈沖★差分脈沖★差分常規(guī)脈沖★單差分常規(guī)脈沖★雙差分常規(guī)脈沖★交流線性掃描★交流循環(huán)伏安★選相交流伏安★循環(huán)選相交流伏安★選相二次諧波交流伏安★二次諧波交流伏安★循環(huán)二次諧波交流伏安★循環(huán)選相二次諧波交流伏安★單/雙/三電流階躍★計時電勢★線性電流掃描★循環(huán)電流掃描★以上電化學(xué)方法都可使用溶出分析★恒電勢全頻阻抗測量★恒電勢單頻阻抗測量★變電勢單頻阻抗測量
四、技術(shù)參數(shù)
· 恒電勢/恒電流
· 電位范圍:±10V
· 恒電勢槽壓: ±30V
· 全速USB V2.0 (12Mbps) 計算機(jī)接口通訊(非RS232串口轉(zhuǎn)換)
· 電位上升時間:<0.5微秒
· 輸入偏置電流:<10pA
· 測量電流分辨:電流量程的0.0015%,zui低0.23fA
· 掃描速度:0.000001V/s 至10,000V/s
· 掃描時的電位增量:0.01mV
· 信號zui高分辨率:10uV;
· iR降補(bǔ)償;
· 自動電位和電流零位調(diào)整
· 二電極、三電極或四電極設(shè)置
· 電流范圍: ±250mA,峰值±400mA
· 電流測量范圍:1 nA ~1000 mA共10檔量程,再加測量放大倍率1~128倍。
· 數(shù)據(jù)采集:16位分辨@1MHz
· 高速信號發(fā)生器:16位分辨@4MHz,低噪聲:12 nV/√Hz
· 阻抗測量范圍:0.000001Hz-100KHz
· 頻率設(shè)置:全頻率范圍任意選擇
· 交流阻抗振幅范圍:1 mV to 1000mV
· 脈沖寬度(mS)范圍:0.05~50000mS
· 脈沖幅度(mV)范圍:1~500mV
· 脈沖周期(mS)范圍:0.05~100000mS
· 階躍電勢(mV)范圍:-10000 mV~+10000 mV
· 階躍時間寬度(mS)范圍:0.05~4000000 mS
· 電位電流階躍次數(shù): :>1000次
· 采樣時間間隔(mS)范圍:0.05~100000 mS
· 方波頻率(Hz)范圍:1~20kHz
· ACV(相敏,可循環(huán))頻率:0.1-10 KHz
· SHACV(相敏,可循環(huán))頻率:0.1-10 KHz
· 基線扣除選擇:開/關(guān)
· 預(yù)處理:設(shè)置四種選擇方法:電解池斷開, 電解池開路, 恒電勢, 溶出方式。
· 電流放大濾波設(shè)置: 自動或手動設(shè)置(覆蓋八個數(shù)量級的頻率范圍)
· 外設(shè)控制:旋轉(zhuǎn)電極控制,通氮,攪拌,敲擊
· 儀器尺寸:900px(寬)′700px(深)′350px(高)
· 電流電位自動/手動濾波,自動/手動電流調(diào)零,自動/手動IR降補(bǔ)償。
· 主機(jī)自帶硬件交流阻抗體系,附帶交流阻抗軟件,及數(shù)據(jù)處理軟件件,可進(jìn)行測量及數(shù)據(jù)曲線的模擬該體系提供多個阻抗測量方法。
· 全速USB V2.0 (12Mbps) 計算機(jī)接口通訊。
如果你對LK2010電化學(xué)工作站感興趣,想了解更詳細(xì)的產(chǎn)品信息,填寫下表直接與廠家聯(lián)系: |